WaferSense® 空载颗粒无线微颗粒传感器侦测
APS 晶圆


通过Wafer Sense APS加快了机台的particle水平验证并迅速投入生产

通过实时无线监控particle,改善机台状态和长期产能。

在半导体工艺设备和自动晶圆传输系统实现快速地监控、识别并对小至 0.15um 的particle的进行故障排除。轻松确定particle何时以及何地产生,并实时测量清洁调整和维修方法的有效性。

通过无线测量,加快设备质量验证。

通过 APS 和 Particle View™ 软件以无线方式收集和显示particle数据,以便进行实时设备诊断根据记录的particle数据,在过去和现在以及不同的机台之间进行比较。通过 APS数据快速定位污染源可以节省时间,并实时查看清洁效果、调整和进行维修。

通过晶圆形状特点,缩短设备维修周期。

实时检测particle,无需打开机台。APS 可到达原本只有晶圆去到的位置寻找particle污染源晶圆。 确定particle产生的位置后,可以对机台进行选择性地清理。只打开脏的部分,保持干净的区域的清洁。

通过客观且高重复性的数据降低机台消耗。

通过 APS,提高第一遍监控晶圆(Monitor Wafer)的成功概率,降低机台检查费用并提高可用性。收到设备可能出现故障的早期警示,并优化您的预防性维修计划。确定已知清洁机台的基准数据,然后在使用监控晶圆前对待测机台循环使用 APS。

特性

  • 晶圆形状。提供 150mm, 200mm、300mm和 450mm 尺寸。
  • 高准确性以 0.1um 和 0.5 um两个尺寸区间量测particle。
  • 无线。将particle数据传送到您PC 的桌面上。
  • 用户友好型软件。ParticleView 应用程序软件为用户提供实时视觉反馈,并且可记录和显示已记录数据,以便进行查看和分析。
APS Did You Know?

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数据表

Proven and Adopted Most Efficient and Effective Save Time and Expense