ReticleSense™ 无线微颗粒侦测
APSR 光罩片


通过Wafer Sense APSR加快了机台的particle水平验证以尽早投入生产
通过实时无线监控particle,改善机台状态和长期产能。
在半导体光罩制造设备和自动光罩传送系统实现快速地监控、识别和对小至 0.15um 的particle的进行故障排除。轻松确定particle何时以及何地产生,并实时测量清洁调整和维护方法的有效性。

通过实时无线监控particle,改善设备状态和长期产能。

通过无线测量,加快设备particle水平验证。通过APSR 和 Particle View™ 软件以无线方式收集和显示particle数据,以便根据记录的particle数据进行实时设备诊断,在过去和现在以及不同工具之间进行比较。通过APSR 数据快速定位particle来源以节省时间,并实时查看清洁效果、调整和进行维修。

通过光罩形状特征,缩短光罩设备维修周期。

实时检测particle,无需打开机台。由于APSR 清洁且具有真空适用性,您无需将光罩制程区域暴露在环境中。APSR可到达光罩所去位置寻找particle污染位置。 确定particle产生位置后,可以对光罩机台进行选择性地清理。只打开脏的部分,保持干净的区域仍然清洁。

通过客观且可复写的数据降低机台消耗。

通过 APSR光罩片,提高第一遍监控光罩片(Monitor Reticle)的成功概率,降低耗材费用并提高可用性。收到机台可能出现故障的早期警示,并优化您的预防性维修计划。确定已知清洁机台的基线数据,然后在监控光罩工作前通过候选机台循环使用 APSR。

特性

  • 方形光罩形状。  提供 152mm x 152mm x 6.3mm 光罩尺寸的方形片。
  • 高准确性以 0.1um 和 0.5 um两个尺寸区间量测particle。
  • 无线。 将particle数据传送到您PC 的桌面上。
  • 用户友好型软件。 ParticleView 应用程序软件为用户提供实时视觉反馈,并且可记录和显示已记录数据,以便进行查看和分析。
  • 应用广泛 APS可在半导体芯片工厂的多个领域使用,如厂区界面、曝光显影、扩散/炉管、测试和检测、快速热处理、量测、微污染和自动传输系统。APS可在 20到 60 摄氏度的温度范围使用。
APS Did You Know?

您知道吗?

节约时间, 节约花费, 提高半导体制程速度和生产速度
  • Time

    時間

    - 節省88%時間及一半的人力
  • Expense

    費用

    - 降低95%成本
  • Throughput

    生產力

    - 提升20倍生產效率

查看我们的产品如何应用于您的工艺制程

数据表

视频演示

Proven and Adopted Most Efficient and Effective Save Time and Expense